IT之家 · IT业界T2·算力与基建
78 分
英飞凌在奥地利 Villach 晶圆厂利用现有硅基产线设备,首次将 300mm 碳化硅晶圆加工为功率半导体器件,验证了大尺寸 SiC 的商业化可行性。公司同时推进 200mm SiC 路线图,并在德累斯顿工厂验证了 12 英寸 SiC 冷分片工艺,以降低晶锭到晶圆的加工损耗。
300mm Wafer
12 英寸大尺寸晶圆规格,单片可产出更多芯片,是降低单位成本的关键路径
英飞凌在奥地利 Villach 晶圆厂利用现有硅基产线设备,首次将 300mm 碳化硅晶圆加工为功率半导体器件,验证了大尺寸 SiC 的商业化可行性。公司同时推进 200mm SiC 路线图,并在德累斯顿工厂验证了 12 英寸 SiC 冷分片工艺,以降低晶锭到晶圆的加工损耗。
英飞凌在奥地利菲拉赫工厂利用现有硅产线设备,首次在 300 毫米碳化硅晶圆上制成可工作的功率器件,成为首家在全尺寸晶圆厂实现该突破的企业。该进展为车规、可再生能源、工业及 AI 数据中心等场景的碳化硅大规模稳定供应奠定工艺基础,首批成品晶圆将于 11 月 10 日起在慕尼黑 electronica 展公开展出。